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反射光谱法计算薄膜厚度日期:2019-9-9 16:46:22    浏览次数:686    来源:http://www.jspjyq.com

关键词

薄膜、厚度、反射率、光刻胶、硅片、VeeMAX、镜面反射附件

简介

薄膜的反射扫描会生成干涉条纹。各波长范围内的条 纹数量取决于反射角、薄膜厚度和薄膜折射率。如折 射率已知,则在一个折射角采集的数据足以计算薄膜 厚度;如折射率未知,在两个折射角所采集的数据可 用于计算折射率和薄膜厚度。所有计算均在电子数据 表格中自动完成,以便技术人员操作。采用分光光度 计得到的结果与折光仪测得的结果良好吻合。

背景

半导体制造行业常要求在硅片表面沉积光阻材料。旋 涂或气相沉积的膜厚精度对于光子器件(包括光刻 胶、导电聚合物膜、导电氧化物薄膜和太阳能电池) 的研究员和制造商至关重要。薄膜性能和成本在很大 程度上取决于薄膜厚度,因此频繁测量对生产开发和 质控至关重要。Thermo Scientific 紫外-可见分光光度 计附件提供轻松快速的无损检测方法进行这些测量。

实验方法

采用 Thermo Scientific Evolution? 300 紫外-可见分光 光度计搭配VeeMAX紫外可见可变角镜面反射附件进 行实验。

VeeMAX或任何两个固定角镜面反射附件适用于通过 所采集的数据来计算折射率和薄膜厚度。 当光束从薄膜折射出去时,一部分从薄膜的第一个面 反射出去,一部分穿透薄膜,从基质面反射出去(图 1)。

根据光束波长、入射角以及薄膜厚度的不同,两个反 射光束可同相或反相,形成相长和相消干涉(图2) 。

反射光谱法计算薄膜厚度

计算薄膜厚度

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